SC600T高真空多功能镀膜仪是一款集成磁控溅射与热蒸发镀碳双功能的复合型高真空镀膜设备，一台设备即可满足扫描电镜导电膜制备和透射电镜碳膜制备的双重需求。设备采用一体加工金属样品仓，搭配进口涡轮分子泵，极限真空度优于5×10⁻³Pa，为高质量薄膜制备提供可靠的真空环境。

磁控溅射模块支持1-200mA溅射电流连续可调，可制备各种金属及导电材料薄膜；碳丝热蒸发模块支持闪断式和脉冲式两种蒸发模式，可精确控制碳膜厚度。双功能一键切换，一键镀膜全自动操作，双组件均配备防污染系统与自动挡板，有效保护镀膜组件并提高镀膜纯度。样品台直径120mm，可插入35个SEM标准样品台，支持升降、旋转及可选倾斜功能，是电镜制样实验室的理想一体化解决方案。

·         磁控溅射+热蒸发镀碳双功能：一台设备满足SEM导电膜制备与TEM碳膜制备双重需求

·         双功能一键切换：一键镀膜，全自动操作，模式切换便捷

·         高真空性能：一体加工金属样品仓，进口分子泵，极限真空优于5×10⁻³Pa

·         双组件防污染系统：磁控溅射和热蒸发组件均配备防污染系统，内置挡板自动开启与关闭

·         多功能样品台：支持旋转、升降及倾斜功能（倾斜可选配）

·         大容量样品台：直径120mm，可插入35个SEM标准样品台

·         磁控溅射模块：溅射电流1-200mA连续可调，支持各种金属及导电材料靶材

·         热蒸发模块：W型蒸发源，碳绳利用率高，闪断/脉冲双模式，精确控厚

·         扫描电子显微镜（SEM）各种导电膜（金属膜/碳膜）制备

·         透射电子显微镜（TEM）碳支持膜及碳膜制备

·         能谱分析（EDS/EDX）、电子背散射衍射（EBSD）样品制备

·         材料科学、薄膜工艺研究、纳米材料制备

·         高校、科研院所及企业电镜实验室的一体化制样解决方案

·         7英寸彩色触摸屏控制，设置及操作界面简洁易用

·         一键式操作、全自动控制，参数设置完毕后点击"一键镀膜"，设备自动完成抽真空、通工作气体、预溅射/预蒸发、设定样品台至指定转速、启动镀膜、破真空等全部操作

·         实时显示靶材使用时间/碳绳使用数量、设备使用时间，实时显示工作电流、电压和真空度