主要参数

外形尺寸

278(L)×494(H)×467(D) mm

溅射靶头

平面磁控冷溅射靶头

靶材尺寸

Φ50mm，厚度支持0.1-4mm

可用靶材

所有金属、导电材料等靶材

工作电流

1-200mA可调（步长：1mA）

镀膜时间

1-9999s可调（步长：1s）

真空泵

旋片泵（可选干泵）+分子泵

主真空泵抽速

90L/s

真空室

170(L)×150(H)×163.5(D) mm

一体加工金属腔室

极限真空

≤5×10-3Pa

工作介质

高纯氩气

工作真空

0.5-2Pa可调

供电

AC220V/50Hz

额定功率

＜800W

预溅射

全自动预溅射清洁功能，配合预溅射挡板，防止样品污染、提高镀膜纯度

样品台

Φ80mm，支持旋转、升降及倾斜功能

其它

真空度、工作电流可实时曲线显示

选配功能

膜厚仪、样品台加热