描述
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主要参数 |
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外形尺寸 |
320(L)×500(H)×500(D) mm |
溅射靶头 |
双磁控溅射靶头 |
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靶材尺寸 |
Φ50mm，厚度0.1-2mm |
可用靶材 |
所有金属、导电材料等 |
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工作电流 |
0-200mA可调（步长：1mA） |
镀膜时间 |
1-9999s可调（步长：1s） |
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真空泵 |
旋片式机械泵+进口分子泵 |
真空泵抽速 |
1.1L/s+250L/s |
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真空室 |
200(L)×200(H)×175(D) mm |
工作介质 |
氩气 |
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极限真空 |
≤5×10-4Pa |
工作真空 |
0.1-10Pa可调 |
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供电 |
AC220V/50Hz |
额定功率 |
＜1000W |
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预溅射 |
全自动预溅射系统，防止样品污染及组件污染、提高镀膜纯度 |
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样品台 |
支持加热及电动升降、倾斜、旋转功能 |
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其它 |
真空度、工作电流可实时曲线显示，软硬件互锁、过流保护、真空保护 |
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