产品概述
SC200磁控溅射镀膜仪是一款面向扫描电子显微镜(SEM)样品制备的紧凑型桌面级镀膜设备,采用磁控溅射技术,可在样品表面沉积均匀、致密的纳米级导电薄膜,有效消除样品荷电效应,提升成像质量。设备配备7英寸彩色触摸屏,支持一键式全自动操作,从抽真空、通工作气体到溅射镀膜、破真空全过程自动完成,2分钟内即可开始镀膜,抽气效率高,特别适合高校、科研院所及企业实验室的日常制样需求。
设备标配旋转样品台,镀膜过程中样品无温升,可适用于热敏性样品及多种非导电材料的导电膜制备。支持Au、Pt、Ag、Cu、Pd等多种靶材,标配0.1mm厚度Pt靶,薄膜颗粒更小,满足高分辨率看样需求。
核心优势
· 一键镀膜,全自动操作:参数设置完成后点击"一键镀膜",设备自动完成抽真空、通工作气体、真空清洗、启动镀膜、破真空等全部操作
· 7英寸彩色触摸屏:设置及操作界面简洁易用,工作参数实时查看
· 样品无温升:镀膜过程样品无温升,适用范围更广,可处理热敏性样品
· 快速抽气:2分钟内开始镀膜,抽气效率高,提升制样效率
· 高分辨率镀膜:磁控溅射技术,薄膜颗粒更小,满足高分辨率看样需求
· 标配旋转样品台:薄膜均匀性更好,支持14个SEM标准样品台同时镀膜
· 多靶材兼容:支持Au/Pt/Ag/Cu/Pd等五种靶材,标配一片0.1mm厚度Pt靶
技术参数
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磁控溅射参数 |
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溅射电流 |
1-50mA,连续可调,步长1mA,工作过程可随时调整并实时生效 |
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溅射时间 |
1-9999s,连续可调,步长1s,工作过程可随时调整并实时生效 |
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靶材直径 |
50mm,支持0.1-1mm厚度 |
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靶材种类 |
支持Au/Pt/Ag/Cu/Pd等五种靶材,标配一片0.1mm厚度的Pt靶 |
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工作压强 |
1-20Pa,连续可调,步长0.1Pa,工作过程可随时调整并实时生效 |
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工作气体 |
氩气/氮气/空气,纯度99.99%以上,减压阀输入压力:1-3大气压 |
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气体接口 |
4mm快插接口 |
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破真空气体 |
氩气/氮气/空气,减压阀输入压力:1-3大气压 |
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破真空接口 |
4mm快插接口 |
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真空系统 |
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真空泵 |
旋片式真空泵,抽速1.1L/s(4m³/h)(外置,可选无油干泵) |
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极限真空度 |
≤0.5Pa |
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样品仓 |
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材质 |
高强度玻璃 |
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尺寸 |
φ130×100mm |
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样品台 |
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直径 |
80mm,可插入14个SEM标准样品台 |
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升降、旋转功能 |
转速0-60rpm可调,与靶材距离20-45mm可调 |
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可选倾斜功能 |
倾斜角度0-45°可调 |
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电气参数及环境要求 |
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电压 |
220V, 50Hz |
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功率 |
≤500W |
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工作温度 |
15-30℃ |
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存储温度 |
5-40℃ |
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环境湿度 |
≤80%(建议≤50%) |
应用领域
· 扫描电子显微镜(SEM)非导电样品的导电膜制备
· 材料科学、冶金、地质等领域的样品表面镀膜处理
· 纳米材料、薄膜材料的基础研究与教学实验
· 法医、考古样品的导电化处理
操作控制
· 7英寸彩色触摸屏控制,设置及操作界面简洁易用
· 一键式操作、全自动控制,参数设置完毕后点击"一键镀膜",设备自动完成抽真空、通工作气体、真空清洗、启动镀膜、破真空等全部操作
实时显示靶材使用时间、设备使用时间,实时显示工作电流、电压和真空度
